ОПТИЧЕСКИЕ МАТЕРИАЛЫ,
кристаллич. или аморфные материалы, предназначенные для передачи или преобразования
света в разл. участках спектрального диапазона. Различаются по строению, св-вам,
функцией, назначению, а также по технологии изготовления.
Структура и свойства. По
строению О. м. подразделяют на моно- и поликристаллические, стекла, аморфные,
стекло-кристаллические и жидкокристаллические. Прир. монокристаллы,
напр., флюорита CaF2, кварца SiO2, кальцита СаСО3,
слюды, каменной соли и др., давно используют в качестве О. м. Кроме того, используют
большое кол-во синтетич. монокристаллов, обладающих прозрачностью в разл. участках
оптич. диапазона (рис. 1) и имеющих высокую однородность и определенные габариты.
Поликристаллические О.
м. характеризуются прозрачностью, по величине сходной с прозрачностью монокристаллов,
и лучшими по сравнению с ними конструкц. св-вами. Наиб. применение находит оптич.
керамика (иртра-ны) на основе Аl2О3 (напр., поликор, или
лукалокс), Y2O3 (иттралокс), MgAl2O4,
SiO2 (кварцевая оптич. керамика), цирконато-титанатов Pb, La (электрооптич.
керамика), а также бескислородные поликристаллические О. м. для ИК области спектра-
LiF, MgF2, ZnS, ZnSe и др.
Оптические стекла характеризуются
высокой прозрачностью в разл. спектральных диапазонах, высокой однородностью
структуры, позволяющей сохранять неизменность фронта световой волны при ее распространении
в толще стекла, коррозионностойкостью, хорошими конструкц. св-вами, относительно
простой технологией изготовления крупногабаритных изделий и изделий со сложной
конфигурацией. Применяются с 18 в. В качестве О. м. используют бесцв. или цветные
оксидные и бескислородные стекла (см. также Стекло неорганическое). Большинство
оксидных оптич. стекол-силикатные (более 30-40% SiO2 по массе), свинцово-
или боросиликатные, а также многокомпонентные оксидные системы из 10-12 разл.
оксидов, напр. алюмоси-ликафосфатные стекла, содержащие Аl2О3,
SiO2, P2O5. Несиликатные оксидные стекла содержат
Р2О5, В2О3, GeO2 или
ТеО2. При изменении состава стекол изменяются и их оптич. константы,
гл. обр. показатель преломления nD и коэф. дисперсии
света vD. В зависимости от величин этих характеристик на диаграмме
nD — vD (т. наз. диаграмма Аббе) О. м. делят
на типы-кроны и флинты (рис. 2). Флинты характеризуются малым коэф. дисперсии
(vD < 50), кроны -большим (vD > 50).
Стекла обоих типов наз. легкими или тяжелыми в зависимости от величины показателя
преломления. Обе разновидности стекол имеют общие компоненты - SiO2,
Na2O, К2О. Кроме того, для увеличения vD
в состав кронов добавляют В2О3, А12О3,
ВаО, СаО, в состав флинтов-PbO, TiO2, ZnO, MgO, Sb2O3.
Осветлители стекол-As2O3 и Sb2O3.
Наиб. высокими значениями vD обладают фосфатные флинты на
основе Р2О5 (особенно при введении фторидов металлов).
\
Рис. 2. Классификация оптич.
стекол (диаграмма Аббе) в зависимости от их показателя преломления (nD)
и коэф. дисперсии света (vD): ЛК-легкие кроны; ФК-фосфатные
кроны; ТФК-тяжелые фосфатные кроны; К-кроны; БК-баритовые кроны; ТК - тяжелые
кроны; КФ - кронфлинты: БФ-баритовые флинты; ТБФ-тяжелые баритовые флинты; ЛФ-легкие
флинты; Ф-флинты; ТФ-тяжелые флинты; СТФ-сверхтяжелые флинты; СТК-сверхтяжелые
кроны.
Особое место среди стекол
занимают фотохромные (см. Фотохромизм)стекла. Выделяют также кварцевые
стекла, уникальные по термо- и хим. стойкости, огнеупорности и др. св-вам. Стеклообразный
SiО2-осн. компонент кварцевых оптич. волокон для протяженных волоконно-оптич.
линий связи; такие волоконно-оптич. материалы характеризуются миним. оптич.
потерями на поглощение (~ 10-6 см-1). Для линий протяженностью
10-100 м используют также оптич. волокна на основе прликомпонентных стекол и
полимеров (оптич. потери ~ 10-3 — 10-5 см-1).
Оптич. потери (теоретические)
у бескислородных оптич. стекол на 1-3 порядка ниже, чем у оксидных. В качестве
таких материалов для ИК диапазона используют обычно разл. халькогенидные стекла,
содержащие As, S (Se, Те), Sb, P, Tl, Ge и др. Наим. оптич. потерями в ИК диапазоне
обладают оптич, волокна на основе галогенидов Ag, Tl и их твердых р-ров и волоконные
световоды на основе фтороцирконатных (содержат Zr, F с добавлением Ва, Na, РЗЭ
и др.) и халькогенидных стекол [содержат As-S(Se)-Ge].
К аморфным О. м. относятся
мн. нсорг. и орг. в-ва. Среди первых наиб. распространены аморфный Si, SiO2,
оксиды II-VI групп,
соед. типа AIIBVI, среди вторых-разл. полимеры: полиметилметакрилат
(орг. стекло), полистирол, мн. фторопласты.
Неорг. аморфные О. м. используют
гл. обр. в виде разл. пленок, иногда в виде массивных образцов (напр., аморфный
Si); орг. аморфные О. м.-в виде пленок, оптич. волокон, массивных образцов (напр.,
полистирол).
О стеклокристаллических
О.м. см. Ситаллы, о жидкокристаллических-Жидкие кристаллы.
К особому классу относятся
О.м. с непрерывно изменяющимся составом и оптич. св-вами. Основа таких материалов
- градиентные оптич. волокна или самофокусирующие градиентные оптич. элементы
(напр., селфок, или гра-дан) в виде цилиндрич. образцов (диаметр 1-10 мм), обеспечивающих
фокусировку света. Изготовляют их из таллиево-силикатных или силикогерманатных
стекол, кристаллич. материалов (напр., на основе твердых р-ров галогенидов Т1),
полимеров (напр., полиметилметакрилата). Градиентные слои и пленки на монокристаллах
ниобата Li и др. кристаллич. или стеклянных материалах - основа интегрально-оп-тич.
устройств.
По спектральному диапазону
различают О.м., пропускающие в УФ, видимой и ИК областях спектра. Нек-рые О.м.
характеризуются широким плато спектрального пропускания, иногда разбиваемого
на отдельные окна прозрачности селективными полосами поглощения примесей. Для
работы в УФ (>
0,2 мкм), видимой и ближней ИК областях спектра применяют гл. обр. кварц, фториды
Li и Na; для работы в средней и дальней областях ИК спектра-преим. бескислородные
О.м. Такие О.м., как Si, Ge, GaAs, InSb, пропускают только ИК излучение; галогениды
щелочных металлов, BaF2, ZnSe прозрачны в видимой, ближней и средней
ИК областях спектра; КСl, GaAs, TlBr-TlI и др. пропускают интенсивное лазерное
ИК излучение.
С увеличением массы атомов,
составляющих структуру О. м., длинноволновая граница пропускания большего числа
О.м. перемещается в сторону расширения спектрального диапазона; напр., для анионов
имеет место след. ряд: оксиды
фториды
сульфиды < хлориды
селени-ды < бромиды
теллуриды < (либо =) иодиды. Для иоди-да Cs длинноволновая граница прозрачности
составляет ~ 60 мкм.
По назначению различают:
О.м. для элементов оптич. устройств; просветляющие, отражающие и поглощающие
покрытия; электрооптич., магнитооптич., акустооптич. и пьезооптич. материалы.
Иногда к О.м. относят лазерные материалы, материалы для преобразования
света в тепло и электричество, а также О. м. в виде композитов, порошков, эмульсий:
дисперсные фильтры, отражающие покрытия, люминесцирующие стекла, красители для
лазеров. В качестве О.м. иногда применяют оптич. клеи (с определенным показателем
преломления), прозрачные орг. иммерсионные жидкости и др.
Материалы оптич. устройств
(линзы, светофильтры и т.п.) имеют определенный показатель преломления, высокую
прозрачность в определенном спектральном диапазоне, хорошо поддаются оптико-мех.
обработке (шлифованию, полировке) пов-сти. Наиб. важное св-во-оптич. однородность,
т.к. ослабление (потери) света, наряду с поглощением, определяется рассеянием
на разл. дефектах структуры-микровключениях посторонних фаз, пузырях и свилях
(областях стекол с измененным показателем преломления), микропорах (для керамики)
и т.п.
Просветляющие покрытия
служат для уменьшения коэф. отражения оптич. устройств, отражающие-для изготовления
зеркал, поглощающие-для чернения пов-сти. Разновидность просветляющих покрытий
- интерфе-ренц. покрытия толщиной 10-150 мкм; они м. б. многослойными и характеризоваться
постепенным изменением показателя преломления от низкого (1,3-1,55; NaAlF4
, MgF2 или SiO2) до среднего (2,0-2,6; ZrO2,
GeO2, ZnS, TiO2 или A12S3) и высокого
(более 3,0; Si, Ge). Отражающие покрытия изготовляют
гл. обр. из Ag, Au, Al, поглощающие - из углерода, оксидов, нитридов и силицидов.
Электрооптические, магнитооптические,
акустооптические и пьезооптические О.м. характеризуются способностью менять
свои оптич. св-ва под действием разл. полей (электрич., магн., звуковых). Наиб.
распространенные электрооптич. материалы-КН2РО4, KH2AsO4
и их дейтериевые аналоги, соли др. щелочных металлов и аммония, кристаллы типа
сфалерита и эвлитина, разл. сегнето- и антисегнетоэлектрики, в т.ч. LiNbO3,
LiTaO3, BaTiO3, бариевостронциевые бронзы и др. К маг-нитооптич.
материалам относят железоиттриевые и железо-гадолиниевые гранаты, ферриты, содержащие
РЗЭ, и др. (см. Магнитные материалы). Осн. акустооптич. и пьезооптич.
материалы - кварц, мн. титанаты, ниобаты, танталаты и др. (см. Акустические
материалы).
Многие О. м. способны поляризовать
световой поток, напр. вращать плоскость поляризации света. При облучении нек-рых
О. м. видимыми и УФ лучами наблюдается вторичное свечение-фотолюминесценция
(см. Люминесценция).
Методы получения. В
зависимости от состава и назначения О. м. для их получения применяют разл. методы.
Общим является то, что все О. м. получают из сырья, максимально очищенного от
примесей (напр., для О. м., работающих в видимой и ближней ИК областях, осн.
красящие примеси-Fе, Mn, Cu, Cr, Ni, Co). Содержание примесей в сырье не должно
превышать 10-2 % по массе, что обеспечивает коэф. поглощения менее
10-2 см-1, а в случае волоконно-оптич. материалов -10
-5 -10 -7 % по массе.
Для выращивания синтетич.
монокристаллов используют методы монокристаллов выращивания, для оксидной
керамики-спекание (см. Керамика), для получения поликристаллических О.
м. из порошков-горячее прессование. Бескислородные поликристаллические О. м.
для ИК области спектра с размерами зерен ~ 50 мкм и коэф. поглощения ~ 10-3
см-1 получают с использованием метода хим. осаждения из газовой фазы
или конденсацией из паровой фазы. Оптич. стекла получают методом варки стекла.
Для кварцевых оптич. волокон наиб. распространено хим. осаждение из газовой
фазы по р-циям SiCl4 + O2SiO2
+ 2 Сl2 или SiCl4 + О2 + 2Н2SiO2
+ 4 НСl. Образующиеся при высокой т-ре частицы SiO2 осаждают
(в виде слоев) на внутр. пов-сть кварцевой трубки (т. наз. CVD-метод; англ,
chemical vapor deposition), внеш. пов-сть цилиндрич. подложки (OVD-метод; англ.
outer vapor deposition) или на торец затравочного кварцевого стержня (VAD-метод;
англ, vapor axial deposition); затем при нагревании заготовка оплавляется и
вытягивается в тонкое оптич. волокно. Для изменения состава и nD
кварц легируют Ge, F и др. Для получения поликомпонентных и ИК оптич. волокон
используют филь-ерный метод или перетяжку пары "согласованных" стекол
по методу "штабик-трубка".
Среди разл. методов получения
градиентных материалов наиб. значение имеет обработка стекол расплавами солей
щелочных металлов, при к-рой протекает диффузия ионов из стекла в расплав и
наоборот (метод ионного обмена).
Неорг. аморфные О.м. получают
конденсацией из паро-газовой фазы, химическими транспортными реакциями, кристаллизацией
и хим. осаждением из р-ров, облучением кристаллич. материалов и др. методами;
органические - полимеризацией в блоке, р-ре и т.д. Для снижения оптич. потерь
в волокнах из аморфных органических О.м. до 10-2-10-4см-1
используют мономеры, предварительно подвергнутые очистке. Покрытия из О.м. наносят
термич. вакуумным напылением, испаряя исходный материал в электропечах или потоком
электронов (катодное, магне-тронное распыление).
О. м. применяют в качестве
элементов в оптич. системах приборов, оптоэлектронных устройствах, световодных
системах связи, измерит. и интегральных схемах, в средствах управления и контроля
технол. и физ. процессами, бытовых приборах, мед. аппаратуре и т.д.
Лит.: Винчелл А.
Н., Винчелл Г., Оптические свойства искусственных минералов, пер. с англ.. М.,
1967: Сонин А. С., Василевская А. С., Элекгрооптические кристаллы, М., 1971;
Физико-химические основы производства оптического стекла, под ред. Н. И. Демкиной,
Л., 1976; Мидвин-тер Д. Э., Волоконные световоды для передачи информации, пер.
с англ., М., 1983; Кочкин Ю. И., Румянцева Г. Н., "Зарубежная радиоэлектроника",
1985, №9, с. 89-96; Л еко В. К., Мазурин О. В., Свойства кварцевого стекла,
Л., 1985; Deutsch Т. F., "J. Electronic Materials", 1975, v. 4,
№4, р.663-719; Lucas I., "Infrared Physics", 1985, v.25, №1/2, p!277-81.
В. В. Сахаров.